泵浦源是一种 激发激光介质的设备，它的作用是将能量提供给激光工作物质，使其从基态跃迁到高能级，从而实现粒子数反转。这是激光产生的关键过程。泵浦源可以是光激励、气体放电激励、化学激励或核能激励等，具体选择取决于激光介质的特点。
在激光器中，泵浦源是一个重要组件，它为激光器提供必要的能量来激发激光介质，从而实现高效激光输出。泵浦源激光器广泛应用于光纤激光器、固体激光器和直接半导体激光器等多种类型的激光器中。例如，在固体激光器中，泵浦源可以是半导体激光二极管（LD），其输出特性满足特定激光介质的窄线宽要求。
此外，泵浦源在光通信、激光雷达、医学激光和材料加工等领域也有广泛应用。
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